Hoefer HE-PLUS System - Handbuch (Seite 25)

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Pflege und Wartung
Reinigung
Die Einheiten werden am besten mit warmem Wasser
gereinigt und ein mildes Reinigungsmittel. Wasser
bei Temperaturen über 60 °C kann es zu Schäden
am Gerät und Komponenten. Die Geräte nicht in
Reinigungsmitteln für mehr als 30 Minuten stehen
gelassen werden. Der Behälter sollte gründlich mit
warmem Wasser und destilliertem Wasser gespült
werden, um zu verhindern, Aufbau von Salzen,
sondern darauf zu achten, nicht auf die beiliegende
Elektrode beschädigt werden. Kräftige Reinigung ist
nicht notwendig oder empfohlen. Lufttrocknung wird
vor der Anwendung empfohlen.
RNase-Dekontamination
Dies kann unter Verwendung des folgenden
Protokolls werden:
• Reinigen Sie die Geräte mit einem milden
Reinigungsmittel wie oben beschrieben.
• Waschen mit 3% Wasserstoffperoxid (H
2
O
2
) für
10 Minuten.
• Spülen mit 0,1% DEPC-(Diethylpyrocarbonat)
destilliertem Wasser behandelt.
• Vorsicht! DEPC ist vermutlich karzinogen. Tragen Sie
immer Handschuhe und Schutzbrille tragen.
RNaseZAP ™ (Ambion) können ebenfalls verwendet
werden. Bitte beachten Sie die Anweisungen für die
Verwendung mit Acryl-Gel-Tanks.
Wichtig: Die Geräte sollten niemals
in Kontakt mit den folgenden
Reinigungsmitteln kommen,
werden diese irreversible und
kumulative Schäden verursachen:
Aceton, Phenol, Chloroform,
Tetrachlorkohlenstoff, Methanol,
Ethanol, Isopropylalkohol, Laugen.