Ivoclar Vivadent Telio Lab - CAD v.1 Benutzerhandbuch

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Konditionierung der Telio Produkte für den Haftverbund

Basiswerkstoff

Oberflächen-
vorbereitung

Haftvermittler

Ergänzungs-

werkstoff

Telio Lab
Telio CAD

Abstrahlen

(Al

2

O

3

Typ 100) mit

1–2 bar Druck oder

anschleifen

Telio Activator

oder

Telio Lab Cold Liquid

Telio Lab

Telio Lab
Telio CAD

Abstrahlen

(Al

2

O

3

Typ 100) mit

1–2 bar Druck oder

anschleifen

Telio Activator

oder

Telio Lab Cold Liquid

und SR Composiv

Telio Stains

Telio Lab LC Transpa

Incisal

Telio Add-On

Ivoclar Vivadent
Prothesenzähne

*ausgenommen Ivoclar Vivadent

Keramikzähne

Abstrahlen

(Al

2

O

3

Typ 100) mit

1–2 bar Druck oder

anschleifen

Telio Activator

oder

Telio Lab Cold Liquid

Telio Lab

Legierungen

Abstrahlen mit

Al

2

O

3

nach

Herstellerangaben

SR Link

Telio Lab

Vectris

Abstrahlen

(Al

2

O

3

/ Type 100) mit

1–2 bar Druck

Telio Activator

oder

Telio Lab Cold Liquid

und Vectris

Benetzungsliquid

Telio Lab

8

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