INFICON XTC/3 Thin Film Deposition Controller Operating Manual - Handbuch (Seite 215)

A - 5
IP
N 07
4-
44
6-
P5
A
XTC/3 Gebrauchsanleitung
MgAl
2
O
6
8.000 *1.000 Spinell
MgF
2
3.180 0.637 Magnesiumfluorid
MgO 3.580 0.411 Magnesiumoxid
Mn 7.200 0.377 Mangan
MnO 5.390 0.467 Manganoxid
MnS 3.990 0.940 Mangan(II)sulfid
Mo 10.200 0.257 Molybdän
Mo
2
C 9.180 *1.000 Molybdänkarbid
MoB
2
7.120 *1.000 Molybdänborid
MoO
3
4.700 *1.000 Molybdäntrioxdid
MoS
2
4.800 *1.000 Molybdändisulfid
Na 0.970 4.800 Natrium
Na
3
AIF
6
2.900 *1.000 Kryolit
Na
5
Al
3
F
14
2.900 *1.000 Chiolit
NaBr 3.200 *1.000 Natriumbromid
NaCl 2.170 1.570 Natriumchlorid
NaCIO
3
2.164 1.565 Natriumchlorat
NaF 2.558 0.949 Natriumfluorid
NaNO
3
2.270 1.194 Natriumnitrat
Nb 8.578 0.492 Niob (Columbium)
Nb
2
O
3
7.500 *1.000 Niobtrioxid
Nb
2
O
5
4.470 *1.000 Niob(V)oxid
NbB
2
6.970 *1.000 Niobborid
NbC 7.820 *1.000 Niobkarbid
NbN 8.400 *1.000 Niobnitrid
Nd 7.000 *1.000 Neodym
Nd
2
O
3
7.240 *1.000 Neodymoxid
NdF
3
6.506 *1.000 Neodymfluorid
Ni 8.910 0.331 Nickel
NiCr 8.500 *1.000 Chrom-Nickel
NiCrFe 8.500 *1.000 Inconel
NiFe 8.700 *1.000 Permalloy
NiFeMo 8.900 *1.000 Supermalloy
Tabelle A-1 Materialtabelle (fortgesetzt)
Formel Dichte Z-Ratio Materialbezeichnung