Apple Motion 5.1.1 Benutzerhandbuch
Seite 254
Kapitel 7
Compositing-Grundlagen
254
Parameter „Schattenwurf“
Die Steuerelemente des Parameters „Schattenwurf“ sind nur zu sehen, wenn die übergeordnete
Gruppe auf 3D eingestellt ist.
•
Schattenwurf (Schlagschatten): Ein Markierungsfeld, mit dem festlegt wird, ob ein Schatten
geworfen wird, wenn sich eine Ebene zwischen einer Lichtquelle und einer weiteren
Ebene befindet.
Hinweis: Dieser Parameter hat keine Auswirkung auf bereits vorhandene Schattenwürfe.
•
Schatten empfangen: Steuert, ob sich die Schatten benachbarter Ebenen auf die aktuelle Ebene
auswirken. Wenn das Feld deaktiviert ist, wirkt sich die Lichtquelle so auf die Ebene aus, als
wäre die Schatten werfende Ebene gar nicht vorhanden.
•
Nur Schatten: Ein Markierungsfeld, mit dem durch Auswahl festgelegt wird, dass eine Ebene
Licht blockiert und einen Schatten wirft, während die Ebene selbst in der Szene nicht zu
sehen ist.
Weitere Informationen hierzu finden Sie unter
auf Seite 1084.
Parameter „Reflexion“
Die Steuerelemente des Parameters „Reflexion“ sind nur zu sehen, wenn die übergeordnete
Gruppe auf 3D eingestellt ist. Die Steuerelemente des Parameters „Reflexion“ sind nicht verfügbar
bei 3D-Partikel-Emittern, 3D-Replikatoren oder normalen Textebenen. Für reduzierten Text, der
durch Auswahl der Option „Reduzieren“ im Bereich „Layout“ des Informationsfensters „Text“ akti-
viert wird, sind die Parameter „Reflexion“ jedoch verfügbar.
•
Reflexionsvermögen: Ein Regler zum Einstellen der Oberflächenhelligkeit der Ebene. Bei einer
Einstellung von 0 % reflektiert die Ebene nicht. Bei 100 % reflektiert die Ebene wie ein Spiegel.
•
Menge für Weichzeichnen: Ein Schieberegler zum Einstellen der Weichzeichnung einer
Reflexion. Abhängig von der Oberfläche der reflektierenden Ebene wird damit ein
Weichzeichnungseffekt erzeugt.
•
Nachlassen: Dieses Markierungsfeld bestimmt, ob die Reflexion mit wachsendem Abstand von
der Ebene abnimmt, was realistischer wirkt. Durch Klicken auf das Dreiecksymbol können Sie
weitere Steuerelemente zum Anpassen des Effekts „Nachlassen“ einblenden: “Anfangsdistanz“,
„Enddistanz“ und „Exponent“. Mit dem Regler „Exponent“ wird angepasst, wie schnell die
Reflexion schwächer wird, wenn sich reflektierte Ebenen von der reflektierenden Ebene
weg bewegen.
•
Füllmethode: Dieses Einblendmenü bestimmt die Füllmethode, die für die Reflexion
verwendet wird.
Weitere Informationen hierzu finden Sie unter
auf Seite 1092.
Weitere Parameter im Informationsfenster „Eigenschaften“
•
Schattenwurf: Aktiviert und deaktiviert den Schattenwurf einer Ebene über ein
Markierungsfeld. Bei Auswahl des Felds werden zusätzliche Steuerelemente verfügbar.
Weitere Informationen zum Arbeiten mit Schattenwürfen finden Sie unter
auf Seite 275.
•
Alle vier Ecken: Ein Aktivierungsfeld zum Aktivieren oder Deaktivieren der Verzerrung. Wenn
eine Ebene verzerrt und dieses Markierungsfeld deaktiviert wird, nimmt die Ebene wieder
ihre ursprüngliche Form an. Die Koordinaten der Verzerrung werden jedoch beibehalten.
Durch eine erneute Auswahl des Markierungsfelds wird die Verzerrung entsprechend der
Koordinatenparameter für „Alle vier Ecken“ wieder aktiviert.
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