Apple Motion 5.1.1 - Handbuch (Seite 630)

Kapitel 14 Partikel 630
Verwenden von Masken für Partikelsysteme
Wie in den folgenden Bildern zu sehen ist, können Sie Masken auf die Zellenquelle eines
Partikelemitters anwenden. Der Maskeneffekt für die Zellenquelle wird auf die emittierten
Partikel übertragen.
Original source layer Bezier mask applied
to source layer
Resulting particle system
Sie können Masken außerdem auf das Emitterobjekt selbst anwenden.
Rectangle mask (inverted) applied
to the emitter object
Weitere Informationen zum Arbeiten mit Masken finden Sie unter Masken und Transparenz –
Übersicht auf Seite 1022.
Anwenden von Filtern auf Partikelsysteme
Filter können auf den Emitter eines Partikelsystems, aber nicht auf einzelne Zellen ange-
wendet werden. (Filter können jedoch auf die Quelle einer Zelle angewendet werden.) Filter
wirken sich folglich auf das gesamte Partikelsystem aus, auch auf jedes Element im Muster auf
dem Bildschirm.
Light Valve particle system default Light Valve with Bulge filter applied
67% resize factor